第341章 与尖端的差距！林决带来的信心！(1/2)

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    紧接着。



    一个被林决规划好的消差工程节点图，出现在众人眼中。



    林决声音随之传来，



    “前辈们也都清楚，EUV 反射镜多层膜的原位相位非均匀性误差，是因为8 米极紫外长光程的全局波前基线失配产生的。”



    “目前我们的做法和国外一样。”



    “......用11 块钼硅多层膜，通过反射镜在斜入射入，让膜层反射偏差经过 8 米的光程，11的 次反射线性累积，最后形成固定波前畸变。”



    “我看了胡老给的手稿。”



    “目前，我们光机所单块反射镜精度极致工艺水平，面形 0.2nm RMS，13.5nm 反射率 65%......”



    “对比蔡斯，ASML的成熟量产水平来看，面形差了0，反射率差也差了足足5%！”



    “而在多次反射累计后......”



    “这个差距变得更大了。”



    “我们全链路最终波前精度是1.2nm RMS，而ASML的，是0.15nm RMS。”



    “整整8倍的差距！！！”



    “在这个数据下，实际工况仅能完成单根纳米线的原理验证！”



    “没办法......我们既缺少高端测量仪器，还没有精准的全局耦合补偿模型......连实际误差都拿不到。”



    林决的声音在会议室内回响。



    他口中的这些问题，在座诸君都是清楚，也是他们为此努力奋斗解决的目标。



    根据目前的进展来看......



    要追上国外目前量产水平，在原本规划中，可能还要个十二三年左右的时间。



    注意.....



    这里林决说的还是量产水平，而并非最尖端产品！



    “但现在......”



    “根据我列出的工程节点推导。”



    “林氏函子光学变式......咳咳......请允许我先用这个名字称呼它。”



    “我们是不是可以将它先做跨尺度同构映射，然后将零散值变成全局真实的分布呢！？”



    “这样做的话，我们就不用再去推演11次反射的相位积累.......”



    “而是将十几个零散的可见光测量指数函子，完成两个关键映射！”



    “大家且看......”



    说着，林决点开其中一个节点示例，一个更加直观的模型图落入众人眼中。



    “通过这种方式。”



    “我们可以同构映射13.5纳米的EUV波长分布，以及同构11块镜子串起来后的误差分布。”



    “如此一来。”



    “我们便能准确知道，每一块镜子的具体相位偏差。”



    核心专家组们听到此话后，不禁陷入沉思。



    很快，有个跟原本就随胡老的光学设计师站起来问，



    “林决你的想法很新奇，不过我有点疑惑，你要怎么确定每块镜子背面促动器要加的补偿电压？”



    一听这话。



    林决笑了出来，就在这儿等着你呢。



    他关掉当前画面，打开另外一个节点图。



    “函子根据这个真实的相位分布，直接输出电压值给促动器施加局部变形，把镜面反向相位补偿量就行。”



    那个光学设计师皱眉沉思了一会儿，



    “嗯，逻辑上好像勉强能行。”



    在他的视角中。



    林氏函子光学变式这个东西，还没用科学进行验证过。



    所以.....



    还得保持怀疑谨慎的态度才行。



    林决也很赞同，“确实，这是相对理想化的推演，实际工况中，咱们还得经过反复测试。”



    等到那人坐下，立马又是一个个专家站起来提问。



    “没有绝对标定的参-->>

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